Kiselkarbid är en mångsidig högpresterande keramik som används i många olika industrier. Från medicinska implantat och rymdutrustning till nästa generations halvledarelektronik, den är robust och mångfacetterad.

Kiselkarbid är ett mycket hållbart material som har många användningsområden, från slipverktyg till nästa generations halvledarelektronik och kapsling för kärnreaktorer. En av dess bästa egenskaper är att den kan formas till praktiskt taget vilken form som helst och är extremt lätt. SiC har en mycket låg termisk expansionskoefficient, så den expanderar inte när den utsätts för värme eller drar ihop sig när den utsätts för kyla. Detta gör det till ett mycket bra material för ett brett spektrum av applikationer inklusive värmeväxlare och vakuumchuckar för kiselwafers.

Användningen av alfa-kiselkarbidrör införda i hål i grafiten för att transportera processvätskan, och/eller passager borrade i grafiten för att transportera servicevätskan, tillsammans med en fluorpolymerbeläggning på vissa yttre ytor av värmeväxlarenheten och på ändarna på kiselkarbidrören ger förbättrat korrosionsskydd för värmeväxlingsenheten.

De kemiskt inerta egenskaperna hos kiselkarbid (SiC) har många fördelar. Kiselkarbidskär fabrik inkluderar ett högre elektriskt genombrottsfält, lägre läckström och lägre resistans vid höga temperaturer. Kiselkarbid används vanligtvis i en mängd olika elektrisk utrustning inklusive motstånd, termistorer och varistorer. Den erbjuder också överlägsen hållfasthet vid höga temperaturer, vilket gör den till ett önskvärt val för wafertrågstöd och paddlar i halvledarugnar.

Flera astrofysiska teleskop använder polykristallina kiselkarbidspeglar (SiC) för sin primära optik på grund av den låga värmeutvidgningskoefficienten och höga styvheten. Dessutom är SiC också en stark kandidat för interna kärnor i kärnreaktorer. Utöver sina utmärkta egenskaper är SiC mycket kostnadseffektivt. Det är ett mycket vanligt material för tillverkning av olika industriprodukter, inklusive slipmedel och eldfasta material.